Seto 1.67 fotokromik lens shmc

1) Spin kaplaması nedir?

Spin kaplama, düz substratlara düzgün ince filmler bırakmak için kullanılan bir prosedürdür. Genellikle alt tabakanın merkezine az miktarda kaplama malzemesi uygulanır, bu da düşük hızda döner veya hiç eğilmez. Substrat daha sonra kaplama malzemesini santrifüj kuvvet ile yaymak için 10.000 rpm'ye kadar hızla döndürülür. Spin kaplama için kullanılan bir makineye spin coater veya sadece spinner denir.
Filmin istenen kalınlığı elde edilene kadar sıvı substratın kenarlarından dönerken dönme devam eder. Uygulanan çözücü genellikle uçucudur ve aynı anda buharlaşır. Eğim açısal hızı ne kadar yüksek olursa, film o kadar ince olur. Filmin kalınlığı aynı zamanda çözeltinin viskozitesine ve konsantrasyonuna ve çözücüye bağlıdır. Spin kaplamanın öncü teorik analizi Emslie ve ark. biriken film kalınlığını tahmin etmek için evrensel açıklama).
Spin kaplama, nano ölçekli kalınlıklara sahip muntazam ince filmler oluşturmak için kullanılabileceği sol-jel öncüleri kullanılarak cam veya tek kristal substratlar üzerinde fonksiyonel oksit tabakalarının mikrofabrikasyonunda yaygın olarak kullanılır. [6] Fotolitografide, yaklaşık 1 mikrometre kalınlığında fotorezist katmanları biriktirmek için yoğun bir şekilde kullanılır. Fotoresist tipik olarak 30 ila 60 saniye boyunca saniyede 20 ila 80 devirde döner. Ayrıca polimerlerden yapılmış düzlemsel fotonik yapıların üretimi için de yaygın olarak kullanılır.
Kaplama ince filmleri döndürmenin bir avantajı, film kalınlığının tekdüzeliğidir. Kendi kendini sevme nedeniyle, kalınlıklar%1'den fazla değişmez. Bununla birlikte, spin kaplama daha kalın polimerler ve fotorezistler, düzlemselleştirmesi fiziksel sınırları olan nispeten büyük kenar boncuklarına neden olabilir.